Computational lithography
Xu Ma · 2010
איפה לקנות
בדקו את המחיר העדכני באמזון. אנחנו לא מציגים מחירים כי הם משתנים מדי יום.
לצפייה באמזוןקישור שותפים. בתור שותפים של Amazon אנחנו מרוויחים מרכישות מתאימות.
על הספר
A Unified Summary of the Models and Optimization Methods Used in Computational Lithography. Optical lithography is one of the most challenging areas of current integrated circuit manufacturing technology. The semiconductor industry is relying more on resolution enhancement techniques (RETs), since their implementation does not require significant changes in fabrication infrastructure. Computational Lithography is the first book to address the computational optimization of RETs in optical lithography, providing an in-depth discussion of optimal optical proximity correction (OPC), phase shifting.
פרטי הספר
- שנה
- 2010
- שפה
- English
- סדרה
- Wiley series in pure and applied optics
- הוצאה
- Wiley
- מהדורות
- 1
- עמודים
- 226
- ISBN
- 9780470596975
מקור הנתונים: Wikidata
